阿斯麥(ASML)作為全球極紫外光刻機領導者,盤中股價大漲5.05%,引發市場廣泛關注。

這是由於美國勞倫斯利弗莫爾國家實驗室(LLNL)開發出新型大孔徑銩(BAT)激光器,可將EUV光源效率提高約10倍,為芯片製程工藝開闢了新的發展前景。納米芯片的製造主要依賴EUV光刻技術,新型BAT激光器突破了現有EUV光源效率低下的侷限,為製造更小、更快、更節能的芯片鋪平了道路。

作為EUV光刻機龍頭企業,阿斯麥必將積極開發商業化這項新技術。未來,BAT激光可望替代現行CO2激光,推動極紫外光刻進入新的發展階段,預計將進一步鞏固阿斯麥在行業內的領先地位。因此,這一重大科技進展加強了市場對阿斯麥長期發展潛力的信心,推動其股價大幅上漲。