韓國芯片大廠SK海力士14日表示，正考慮使用ASML造價4億美元的高數值孔徑極紫外光（High NA EUV）微影系統設備，來生產下一代存儲器芯片。路透報導，SK海力士技術長Seon-yong Cha 14日在荷蘭舉行的ASML投資人日上透過預錄影片表示，正考慮引進這臺全球最昂貴的芯片製造設備。雖然這臺設備造價不斐，但據傳臺積電和英特爾等公司都已下單。外媒本月稍早引述消息人士報導，臺積電訂購的...
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