金融界 2025 年 1 月 18 日消息，國家知識產權局信息顯示，ASML 荷蘭有限公司申請一項名為「用於對準多束檢查裝置中的電子束的系統和方法」的專利，公開號 CN 119314849 A，申請日期為 2019 年 9 月。

專利摘要顯示，公開了一種改進的帶電粒子束檢查裝置，並且更具體地，公開了一種包括改進的對準機制的粒子束檢查裝置。一種改進的帶電粒子束檢查裝置可以包括第二電子檢測器件，該第二電子檢測器件用以在該對準模式期間生成多個次級電子束中的一個或多個束斑點的一個或多個圖像。該束斑點圖像可以被用來確定該多個次級電子束中的一個或多個次級電子束的對準特性，並且調節次級電子投影系統的配置。