IT之家 2 月 19 日消息，尼康在其 2025 財年第三財季（截至 2024 年 12 月 31 日）財報的演示文稿中透露，該企業正同合作伙伴一道開發一款兼容 ASML 主導的浸沒式 ArF（IT之家注：也稱 ArFi）光刻生態的新型光刻機產品，目標 2028 財年（2027 年 4 月~2028 年 3 月）推出。

在浸沒式 ArF 光刻領域，ASML 目前憑藉其成熟的 TWINSCAN 雙工件臺技術牢牢掌握着九成以上的光刻機市場份額。而該市場僅有的另一位參與者尼康目標是將佔比提升到與乾式 ArF 領域相當的更高水平。

尼康認爲隨着 DRAM 內存和邏輯半導體向三維發展，浸沒式 ArF 光刻的需求也將提升。爲從 ASML 手中奪下更多的 ArFi 訂單，尼康計劃使其正開發浸沒式 ArF 光刻機與 ASML 的同類設備生態兼容，方便原計劃採用 ASML 光刻機的用戶遷移至尼康平臺。

此外，尼康表示其新一代浸沒式 ArF 光刻機將採用新的鏡頭和工件臺，並具備尺寸緊湊、易於維護的優勢。而再下一代產品的開發預計在 2030 年後啓動。