英特爾表示，ASML的首批兩臺尖端光刻機已在其工廠“投入生產”，早期數據顯示，它們比早期型號更可靠。

在加利福尼亞州聖何塞舉行的一次會議上，英特爾高級首席工程師Steve Carson表示，英特爾利用ASML的高數值孔徑（High NA）EUV光刻機，在一個季度內生產30000片晶圓，這種大型硅片可以生產數千個計算芯片。

2024年，英特爾成爲全球第一家接收這些光刻設備的芯片製造商，預計這些設備將能夠比早期ASML設備生產更小、更快的計算芯片。此舉是英特爾戰略的轉變，英特爾在採用上一代極紫外（EUV）光刻機方面落後於競爭對手。

據悉，每臺High NA EUV光刻機售價約3.5億美元（約合人民幣25.4億元），遠高於ASML標準EUV系列的1.8億~2億美元。

英特爾花了七年時間纔將這些早期設備投入全面生產，這導致它失去領先地位，落後於臺積電。在生產的初始階段，英特爾在之前的EUV型號的可靠性方面遇到困難。

然而，Steve Carson表示，在初步測試中，ASML的新型High NA EUV設備可靠性大約是上一代的兩倍。

“我們以穩定的速度生產晶圓，這對平臺來說是一個巨大的好處，”Steve Carson說。

新的ASML EUV設備使用光束將特徵打印到芯片上，也可以使用更少的曝光完成與早期設備相同的工作，從而節省時間和金錢。

Steve Carson說，英特爾工廠的早期結果表明，High NA EUV設備只需一次曝光和“個位數”的處理步驟就可以完成早期設備需要三次曝光和大約40個處理步驟才能完成的工作。

英特爾表示，計劃使用High NA EUV設備來幫助開發Intel 18A（1.8nm）製造技術，該技術計劃於今年晚些時候與新一代PC芯片一起量產。

該公司表示，計劃利用High NA EUV設備全面投入下一代製造技術Intel 14A（1.4nm）的生產，但尚未透露該技術的量產日期。（校對/李梅）