據韓媒FNnews報道，三星電子近日在其華城園區引入了ASML生產的High NA極紫外光刻（EUV）設備，旨在提升2納米及以下製程的競爭力。ASML的High NA EUV設備“EXE:5000”是全球唯一能夠提供此類設備的供應商，單臺價格高達5000億韓元。該設備通過增大透鏡和反射鏡尺寸，將數值孔徑（NA）從0.33提升至0.55，顯著提高了光刻精度，是2納米及以下製程的必備工具。與現有EUV...
網頁鏈接免責聲明：投資有風險，本文並非投資建議，以上內容不應被視為任何金融產品的購買或出售要約、建議或邀請，作者或其他用戶的任何相關討論、評論或帖子也不應被視為此類內容。本文僅供一般參考，不考慮您的個人投資目標、財務狀況或需求。TTM對信息的準確性和完整性不承擔任何責任或保證，投資者應自行研究並在投資前尋求專業建議。