24億一臺!EUV光刻機引入,加速2nm工藝佈局

半導體數據
03-14

彙集半導體行業資訊 技術前沿、發展趨勢!3月14日,據韓國媒體報道,三星電子已在本月初於其華城園區成功引入首臺由ASML公司生產的High-NA EUV光刻機——EXE:5000,該設備價值高達5000億韓元(摺合人民幣約24.88億元)。ASML作爲全球唯一能夠提供此類高端光刻機的供應商,其High NA EUV設備“EXE:5000”通過技術革新,顯著提升了光刻精度,成爲2納米及以下先進製程...

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