半導體行業圈 振興國產半導體產業！

近日ASML宣佈，計劃在日本將其先進的極紫外光刻機的員工人數擴增5倍！

ASML的EUV技術被認爲是製造下一代高性能芯片的核心。隨着全球對高性能芯片需求的快速增長，ASML的擴張不僅能提升其在日本的業務能力，還將助力日本半導體產業的技術升級與人才培養。

與此同時，日本本土半導體企業Rapidus正計劃啓動2納米工藝的試產，預計本月開始，併力求在2027年前實現全面量產。

爲了適應日本不斷增加的 EUV 設備數量，ASML 將在 2027 年前將日本維護人員規模增加到 100 人。

芯片製造涉及數百至上千道工序。如果設備在光刻階段停止工作，則大多數工序都需要停止。ASML 估計，EUV 設備意外停機每分鐘將造成數千美元的機會損失。維修團隊需要全天候駐紮在客戶工廠附近。

ASML的這一舉措不僅是對其業務的擴展，也是對日本市場的信心表現，預示着未來在半導體技術方面的更多合作與發展機會。