據外媒報道，三星電子已經開始研發1.0nm晶圓代工工藝，量產目標定於2029年，以圖在與臺積電的競爭中實現技術翻盤。圖源：網絡根據爆料人披露的細節，三星的1nm工藝被稱爲“夢想中的半導體工藝”，而要實現這一目標，需要引入高數值孔徑極紫外（High-NA EUV）曝光設備等下一代設備。部分曾參與2nm等尖端製程的研發人員被抽調，組建了專項項目團隊，這可能也是三星此前取消其1.4nm製程決定的重要原因...
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