比亞迪半導體申請碳化硅功率器件元胞結構及其製備方法、半導體器件專利,增加源極結構提供更多載流子

金融界
04-22

金融界2025年4月22日消息,國家知識產權局信息顯示,比亞迪半導體股份有限公司申請一項名爲“碳化硅功率器件元胞結構及其製備方法、半導體器件”的專利,公開號CN119855208A,申請日期爲2024年10月。

專利摘要顯示,本申請實施例公開一種碳化硅功率器件元胞結構及其製備方法、半導體器件,屬於半導體技術領域。碳化硅功率器件元胞結構包括基底;柵極結構,柵極結構包括至少兩個第一柵極結構,至少兩個第一柵極結構間隔設置於基底內;源極結構,源極結構設置於基底,並至少環繞兩個第一柵極結構的部分側面;位於兩個第一柵極結構之間的部分源極結構朝向基底的底面延伸,以形成凸出結構,凸出結構的部分構成電場屏蔽結構。本申請增加源極結構,可以更好的屏蔽柵氧電場,另外,源極結構的增加可以提供更多的載流子,並且面積的增加可以進一步減少源極結構的濃度,從而適當增加器件的抗短路能力。

天眼查資料顯示,比亞迪半導體股份有限公司,成立於2004年,位於深圳市,是一家以從事研究和試驗發展爲主的企業。企業註冊資本45621.8756萬人民幣。通過天眼查大數據分析,比亞迪半導體股份有限公司共對外投資了8家企業,參與招投標項目509次,財產線索方面有商標信息3條,專利信息1454條,此外企業還擁有行政許可83個。

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