大家都清楚，EUV光刻機是當前最先進的光刻機技術，可以用於7nm及以下芯片的製造，採用13.5nm波長的極紫外線，售價幾億美元一臺。而這樣的EUV光刻機，目前也只有荷蘭的ASML一家能夠製造，像日本的Cana、Nikon，以及中國的上海微電子，都無法制造。所以這就導致我們製造7nm及以下工藝時候時，被光刻機卡了脖子了。那麼問題就來了，爲何EUV光刻機，只有ASML一家能夠製造出來，而我們研發不出來...
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