金融界 2025 年 1 月 18 日消息，国家知识产权局信息显示，ASML 荷兰有限公司申请一项名为“用于对准多束检查装置中的电子束的系统和方法”的专利，公开号 CN 119314849 A，申请日期为 2019 年 9 月。
专利摘要显示，公开了一种改进的带电粒子束检查装置，并且更具体地，公开了一种包括改进的对准机制的粒子束检查装置。一种改进的带电粒子束检查装置可以包括第二电子检测器件，该第二电子检测器件用以在该对准模式期间生成多个次级电子束中的一个或多个束斑点的一个或多个图像。该束斑点图像可以被用来确定该多个次级电子束中的一个或多个次级电子束的对准特性，并且调节次级电子投影系统的配置。
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