金融界2024年12月28日消息,国家知识产权局信息显示,武汉亿思源光电股份有限公司取得一项名为“一种优化光模块EMC性能的结构”的专利,授权公告号 CN 222213017 U,申请日期为 2024 年 2 月。
专利摘要显示,本实用新型涉及光模块装置技术领域,具体涉及一种优化光模块 EMC 性能的结构,包括盖体,盖体由上盖与下盖拼接形成密封结构,下盖为盒型体,内部放置有各种元器件,对应光口的柱形器件铺设于盖体内,并沿着盖体的长边设置,柱形器件的柱体上设置有环形挡圈,在下盖内部设计有固定柱形器件的固定件,固定件内开设有卡槽,环形挡圈嵌设于卡槽内形成初步固定;本设计采用增加阻挡金属弹片和吸波材料在器件光口位置,使其和器件相配合,同时通过底座和上盖的配合增加屏蔽的密闭性吸波材料可以对干扰信号进行进一步的吸收从而达到优化EMC/EMI的效果。
免责声明:投资有风险,本文并非投资建议,以上内容不应被视为任何金融产品的购买或出售要约、建议或邀请,作者或其他用户的任何相关讨论、评论或帖子也不应被视为此类内容。本文仅供一般参考,不考虑您的个人投资目标、财务状况或需求。TTM对信息的准确性和完整性不承担任何责任或保证,投资者应自行研究并在投资前寻求专业建议。