英伟达CEO黄仁勋:GAA晶体管或带来20%性能提升 但架构创新仍是关键

DoNews
03-27

在近期GTC大会的问答环节中,英伟达CEO黄仁勋表示,采用全环绕栅极(GAA)晶体管的下一代制程技术可能为处理器带来约20%的性能提升。然而,他强调,英伟达GPU的主要性能飞跃仍源于公司自身的架构创新和软件突破。黄仁勋在谈及2028年可能推出的“费曼”架构时提到,若采用GAA技术,性能或提升20%,但他同时淡化制程节点更迭的重要性,指出摩尔定律放缓后,制程进步带来的改进已趋于平缓。分析师指出,...

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